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流水にメガヘルツの高周波を加えることで、加速された水の粒子がサブミクロンの微粒子を洗浄除去します。
CMP研磨後洗浄、ハードディスク・シリコンウエハー・ガリウムヒ素鏡面研磨後洗浄、蒸着前洗浄に最適です。

●常に、清浄な洗浄液を供給するため、液中での汚れの再付着の心配がありません。

●枚葉処理が可能なため、生産ラインへの組込みが用容易です。

●高周波発振のため、微細な汚れを瞬時に除去。
ウエハーへのダメージもありません。

●出力調整により、磁気ヘッドのような割れやすいものでも安心して洗浄を行えます。

●ご要望に応じて特注仕様の振動子を制作致します。

■特徴ホーン外形が直径25mmなので、装置への組込みが容易。
ポイント洗浄に最適。
ホーン部は金属イオンの発生がほとんどありません。
CE対応機もあり。
型式W-357P-25高周波出力60W（出力調整付)発振周波数1MHz（微調整付）電源AC100V/2A使用温度範囲20〜50℃吐出口径（mm）Φ4.2所容水量1.5リットル/min(L型継手)外形寸法(mm)発振機232（横）×342（縦）×138（高）×1台振動子ホーンΦ25×95重量発振機8kg×1台振動子ホーン110g給液口適合チューブ；内径Φ4、外形Φ6出力コード5m電源コード2m（インレットタイプ）保護回路空炊き防止端子、空焚き防止用コード5m接液部材質PCTFE、タンタル、シリコンゴム、PTFE

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